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展会邀约｜与大立过滤并肩攻克，先进制程微污染挑战

更新时间：2026-10-09浏览：9次

　　芯片制造对流体洁净度有着极高要求，微小颗粒与杂质都会影响晶圆成品良率。在湿法清洗、CMP 研磨、光刻胶供给这些关键环节，流体过滤是守住产品品质的重要一环。找到匹配产线工况的过滤方案，是很多半导体制造企业持续攻关的课题。

　　多年来大立持续深耕半导体流体净化领域，依托成熟的产品、完善的验证能力与大量现场工艺经验，为客户提供整套过滤解决方案，助力产线稳定运行。

　　为此，大立过滤诚邀行业同仁于2026 将于 10 月 14-16 日莅临深圳会展中心(福田)1M04A 展位交流指导。

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